在半導體工業(yè)生產(chǎn)中 ， 幾乎各個工序都會用到超純氣體 ， 器件的質量與超純氣體的純凈度密切相關。

99.99% 的氣體 , 是一種高純化學試劑。為適應一些科學研究和尖端技術的特殊需要而制備。一些對氣體要求特別純凈的部門，需要超純氣體的純度高達 99.9999% 以上 , 每升氣體中粒度大于 0.5 μ m 的塵粒數(shù)應小于三個。

超純氣體的制備大多是從工業(yè)氣體加以純化，有吸附法、吸收法、薄膜擴散法、電解法、生化法、輻射法、光解法、低溫精餾法、催化法等。例如超純氫、氮、氦、氬，先通過空氣分離提取較純氣體，再經(jīng)低溫吸附得到超純氣體 ; 粗氬也可以從合成氨弛放氣中提取 ; 粗氪、氙從核裂變氣中提取，再經(jīng)純化而得超純氣體。

半導體工業(yè)用的超純氣體有氫、氧、氮、氬、氦、氨、二氧化銨、四氧化碳各類氣體氫化物及二元或三元以上的混合氣等，它們大部分 是從空氣、天然氣、石油化工和合成氨廠的殘余氣體中提取后進一步精制得到，根據(jù)原料氣來源情況、雜質組份含量、純度要求來選擇相應的制備方法。集成電路發(fā) 展到兆位級后，對超凈提出了更嚴格要求，在超純氣體或電子氣體供氣系統(tǒng)中，為了脫除由于振動或氣流沖擊所造成的脫落粒子，在使用氣前須安裝過濾器。

半導體元件因其高集成化，制作芯片上的電子電路的最小加工線寬度變得更微細， 16k 位電路線寬、線路間距為 4~7 微米，而 256k 位電路為 0.8~1.5 微 米；這種微細的加工允許的微粒子的最小粒徑是加工尺寸的 1/5~1/10 ，故對于 64k 位隨機存取記憶，存在 0.3 微米的粒子會成為問題，對于 256k~1M 位隨機存取記憶，某一段存在 0.1 微米的粒子就會成為問題。在半導體工業(yè)生產(chǎn)中 , 幾乎各道工序都用到超純氣體 , 元件的質量與超純氣體的純凈度密切相關。

相關產(chǎn)品：

精密過濾器

相關資料：

HCl 電子氣體超純純化技術研究；

半導體超凈廠房純氣系統(tǒng)及實例 ；

半導體工業(yè)用超純氣體 ——電子純液氧、液氮 ；

超純電子混合氣體及標準氣體的配制技術探究 ；

國外半導體工業(yè)用超純氣體 ；

半導體制造用高純電子氣體新品種的現(xiàn)狀；

半導體工藝中超高純氣的穩(wěn)定供應技術 ；

技術支持：

如何選擇過濾設備 —工況調(diào)查表

常見流體的粘度；

常見顆粒物的大小及設備選型參考；

常見流體化學適應性表；

選擇過濾精度時微米和目數(shù)的關系；

常見管道尺寸對照表；

如何挑選合適的過濾袋 - 過濾芯 ；

過濾機理和形式 ；

過濾行業(yè)中的常用術語 ；

過濾行業(yè)常見的單位換算 ；

過濾的種類及模式 ；

過濾行業(yè)中的一些名詞定義 ；

常見顆粒物粒徑大小 ；

常用壓濾機濾布分類 ；

過濾機理 ；

幾種過濾方法能耗分析 ；

幾種金屬顆粒和化合物粒徑分布 ；

顆粒尺寸和對應的過濾分離方式 ;